KRTS MX50M金相顯微鏡應(yīng)用于工業(yè)檢測及金相分析領(lǐng)域，各操作機(jī)構(gòu)根據(jù)人機(jī)工程學(xué)設(shè)計(jì)，大限度減輕使用疲勞。模塊化的部件設(shè)計(jì)，可對系統(tǒng)功能進(jìn)行自由組合。大行程移動(dòng)工作平臺(tái)，長工作距半復(fù)消色差物鏡，圖像銳利清晰，集成了明場、斜照明、偏光、DIC微分干涉等多種觀察功能，可根據(jù)實(shí)際應(yīng)用，進(jìn)行功能選擇。
無限遠(yuǎn)鉸鏈三通觀察頭
正像鉸鏈三目觀察頭，所成像的方位與物體實(shí)際方位一致，物體移動(dòng)的方向跟像面移動(dòng)的方向相同，便于使用者觀察與操作。
光學(xué)系統(tǒng)
同步設(shè)計(jì)了全套明暗場兩用物鏡，暗場照明亮度比傳統(tǒng)暗場物鏡提高 2 倍以上。采用長工作距物鏡、半復(fù)消色差技術(shù)，多層寬帶鍍膜技術(shù)，采用LED光源，配合多種高度功能化的附件，50X 物鏡的有效工作距離 7.9mm，100X 物鏡的有效工作距離也達(dá)到了 2.1mm，更有20X 超長工作距金相物鏡，大幅拓展了 MX 機(jī)型的應(yīng)用領(lǐng)域。，能滿足各種檢驗(yàn)需要，可用于明場、簡易偏光、微分干涉觀察，專為LCD行業(yè) / TFT玻璃 / COG導(dǎo)電粒子壓痕、粒子爆破檢查。
移動(dòng)平臺(tái)
6 英寸三層機(jī)械移動(dòng)平臺(tái)，低手位 X、Y 方向同軸調(diào)節(jié) ；平臺(tái)面積 445mm×240mm，反射照明移動(dòng)范圍 ：158mm×158mm ；透射照明移動(dòng)范圍 ：100×100mm ；帶離合器手柄，可用于全行程范圍內(nèi)快速移動(dòng) ；玻璃載物臺(tái)板（透、反射用）。
反射照明器
單顆大功率5W白色LED照明，帶斜照明機(jī)構(gòu)。切換至斜照明時(shí)，可以使物體表面不同材質(zhì)部分呈現(xiàn)立體圖案，增加觀察的對比度與視覺效果。
豐富的觀察方式，滿足您的檢測需求
明場觀察：遠(yuǎn)心柯拉反射照明系統(tǒng)，配以無限遠(yuǎn)長工作距平場消色差金相物鏡，從低倍到高倍，都能得到清晰、平坦、明亮的高畫質(zhì)顯微圖像。
暗場觀察：將暗場照明拉桿拉到位置，即可使用暗場功能，可以觀察物體表面的各種劃痕、雜質(zhì)點(diǎn)及其他細(xì)微缺陷。內(nèi)置衰減片，減少明暗場切換時(shí)光線劇烈變換對眼睛的刺激。
簡易偏光觀察：將起偏鏡及檢偏鏡插板插入照明器的位置，即可進(jìn)行簡易偏光觀察。檢偏鏡可分為固定式和 360°旋轉(zhuǎn)式兩種。
DIC 微分干涉觀察：在正交偏光的基礎(chǔ)上 , 插入 DIC 棱鏡，即可進(jìn)行 DIC 微分干涉觀察。使用 DIC 技術(shù) , 可以使樣品表面微小的高低差產(chǎn)生明顯的浮雕效果，提高圖像的對比度?？善ヅ鋷?DIC 功能的物鏡，使整個(gè)視場的干涉色一致，微分干涉效果非常出色 , 高倍物鏡 DIC 效果也較好。
U-DICR 微分干涉組件，可以將明場觀察下無法檢測的細(xì)微高低差，轉(zhuǎn)化為高對比度的明暗差并以立體浮雕形式表現(xiàn)出來，如LCD 導(dǎo)電粒子，精密磁盤表面劃痕等。
攝影 / 攝像附件
在三目觀察筒上，可以配接攝影攝像裝置，將雙目觀察到的圖像輸出至監(jiān)視器或計(jì)算機(jī)，進(jìn)行圖像分析、處理、保存或傳送。使用專用的 C 接口與中繼鏡，可以和數(shù)碼相機(jī)聯(lián)接，快速進(jìn)行拍照，并獲取圖像。
